Q150T Plus是一款使用涡轮分子泵抽真空的最佳镀膜设备，其可使真空度降至5x10-5mbar。可以溅射具有超细晶粒尺寸的易氧化金属，适用于高分辨率成像。同样地，较低的散射可得到高纯而致密的无定形碳膜。

溅射贵金属和易氧化金属
推荐放大倍数：
• 镀金，金钯合金可达5万倍
• 镀铂可达10万倍
• 镀铬，铱可达10万倍以上
非常适合薄膜应用，例如镀ITO, W, Al, Zn   也可镀其它靶材

Q150T S Plus
全自动溅射镀膜仪，可溅射易氧化金属
可溅射的靶材包括铬、铱、钨、ITO、铝和其他靶材

Q150T E Plus
全自动蒸发镀碳仪（碳棒、碳绳），适合SEM应用
适用于EDS和WDS应用。金属蒸发/光阑清洁可选。

Q150T ES Plus
集成了离子溅射和热蒸镀两种镀膜方式的系统
镀膜头可在数秒内更换，可选金属蒸发/光阑清洁